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原子層沉積系統原理及其應用 - 台灣儀器科技研究中心

原子層沉積(atomic layer deposition, ALD) 技術. 是在1970 年代由芬蘭的Tuomo Suntola 博士和他. 的工作團隊(1) 為了製作高品質、大面積的電致發光.

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