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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司

繁體中文 简体中文 English ... 在目前製程上多使用硝酸（HNO3）、氫氟酸（HF）及醋酸（CH3COOH）三種成份之混合溶液來蝕刻矽，其製程原理包含二道反應步驟：

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