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鋁功函數
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MOS系统的硅表面SiO2的简单实现
金属与半导体的功函数是不同的,并且二氧化硅也不完全绝缘,所以金属与半导体之间就会通过氧化层交换电子,使Si表面形成空间电荷区,而发生能带弯曲。
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「鋁功函數」
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