為什麼這篇半導體功函數定義鄉民發文收入到精華區:因為在半導體功函數定義這個討論話題中,有許多相關的文章在討論,這篇最有參考價值!作者sixth (衝向世界的最高峰)看板Physics標題Re: [問題] 一些半導體物理的疑問時間...
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※ 引述《newwrite (jikk)》之銘言:
: 1.功函數和電子親和力在物理的解釋上有甚麼差別呢?
: 功函數Ef到真空能階差 電子親和力是Ec到真空能階差
第一次看到功函數的地方就是光電效應,用多少頻率的光可以把材料裡的電子
打出電子表面,功函數就是代表這電位差
至於為什麼是這個能量, 參考Fermi-Dirac Distribution,
理想上T=0 或是溫度很低 電子幾乎都在低能量狀態
(不可以有外在能量干擾,熱和非實驗用的光影響到樣品),
在此狀況下可以打出電子的能量,功函數!!!
最外層電子所具有能量...
電子親和力關乎 最外層電子的交互作用力...
: 那物理上的差別是在哪呢?
: 2.在本質半導體中 費米能階會出現在能隙中央
: 但是費米能階定義為出現電子為50%機率的能階
看Feri-Dirac Distribution,
或是 有高手可以證明說明 這個方程式怎麼得出來的嗎?!!!!
請提供PAPER出處 (如果有PAPER的話)
: 那麼能隙中可能出現電子?
電子經過激發後,可以有它被激發後的能量 只是激發狀態持不持久
如果能隙沒有提供一個空缺給激發的電子,電子只能往下填補,
不過通常會存在 Defect, 這時能隙有可能會有LEVEL提供電子填補
你應該在看一下電子的 Generation-Recombination
: 在定義電流時能隙中也會有電流嗎?
載子 Carrier,電子可在材料中移動或是填補空缺,
這...可被電場induce出 Drift, Diffusion current, 這看書可以知道
至於 你的樣品結構特殊, Tunneling current可是需要考慮的
: 想了很久想不出來 可能是我觀念還不很正確吧
: 好像都是定義上的問題
: 煩請各位解答 謝謝!
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