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製程退火
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微製程概論(IC 及TFT/LCD) - 遠東科技大學
退火. 就是利用熱能來消除晶圓內晶格缺陷. 和內應力,恢復矽晶格的完整性。同. 時使摻雜原子擴散到矽晶格上的替代. 位置,有效地活化成具半導體電性功.
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