光罩(Mask):微影製程 5.氮化矽蝕刻 6.光阻去除(Strip photoresist) (c) 7.濕式氧化:形成LOCOS 8.去除氮化矽及墊氧化層(d)圖1.21 LOCOS製程的示意圖外,也會在DCS所傳輸 ...
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