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申請期一0

在各種元件隔離技術中,局部矽氧化方法(LOCOS) ... 傳統之淺溝槽隔離區的製程, 如第14 圖至第1D圖所繪示之 ... 去除氮化矽層14和藝氧化層12,便完成淺溝槽隔離製程,.

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