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半導體製程@ 這是我的部落格 - 隨意窩

對製造一個0.25微米圖形尺寸的IC晶片而言，製程區即需要一個Class 1的無塵 ... 氮化矽主要是被用來當作LOCOS製程中的抗氧化遮蔽層與在STI製程中的CMP ...

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