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106 年公務人員高等考試三級考試試題 - 公職王

D 利用化學機械研磨法(CMP)去除位於氮化矽上之氧化層，以保持表面之平坦性。 優點：. 不需像LOCOS 做長時間與高溫之製程。 且可消除橫向氧化與硼侵入 ...

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