你即將離開本站

並前往https://read01.cc/article/647576

器件三種隔離方式 - 每日必讀

其主要有PN接面隔離，LOCOS隔離，STI隔離三種方式。 PN結隔離技術工藝製程簡單，成本低且成品率高，並且能有效實現了雙極型工藝積體電路的平面隔離。

確定！ 回上一頁

查詢 「locos製程」的人也找了：

  1. 加熱製程
    2.
  2. 乾式氧化濕式氧化比較
    3.
  3. 乾氧化濕氧化比較
    4.
  4. 原生氧化層英文
    5.
  5. 犧牲氧化層目的
    6.
  6. 氧化層厚度
    7.
  7. 爐管製程英文
    8.
  8. 半導體製程
    9.