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半導體化學氣相沉積膜厚之預測使用神經網路

化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)被廣泛的應用在半導體. 製程中，最主要的功用可作為蝕刻製程的阻擋層、蝕刻製程或化學機械研磨.

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