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物理氣相沉積原理 - Andysebas
而在氣相磊晶中又可分成PVD與CVD兩種技術,前者主要是藉物理現象而後者則主要是以化學反應的方式,來進行薄膜的沉積。 物理方式(PVD):PVD的應用大都侷限在金屬.
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