為什麼這篇半導體薄膜製程鄉民發文收入到精華區:因為在半導體薄膜製程這個討論話題中,有許多相關的文章在討論,這篇最有參考價值!作者Rooney (魯尼花)看板Tech_Job標題[轉錄]名詞解釋:NF3 (這篇薄膜製程講得不錯...
半導體薄膜製程 在 PanSci 泛科學 Instagram 的最讚貼文
2020-10-16 12:59:20
良率其實很難提升喔,#科科 有時候我們會在半導體相關的新聞裡聽到某某廠商的晶圓良率很好,或是良率不佳要進行提升。 「良率」兩個字聽上去就是越高越好啊,但是......它真能說升就升這麼簡單嗎? _ 首先,讓我們聊聊「良率」的定義是什麼。 良率呢,簡單來說就=良品數 / 實際生産數,當然...
名詞解釋:NF3
王仕琦
三氟化氮 (NF3)在半導體及TFT-LCD製造的薄膜製程中扮演「清潔劑」的角色,
不過這類清潔劑是氣態,而非液態。在一九九九至公元二千年間,由於TFT-LCD廠大
量增加,供應量約有二、三季趕不上科技界的需求,成為影響產業上游供應端的關
鍵材料。
在半導體晶圓廠及TFT-LCD廠中,薄膜製程主要設備都是「化學氣相沉積」(CVD)
機台,會在晶圓片或面板上長出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金屬
材料,但這些材料不僅會附著在晶片及面板上,也附著在反應室(chamber)內的牆
壁上,內牆上的二氧化矽累積至相當數量,就會在反應室內形成微塵粒子(Particle)
,影響晶圓片或面板的良率。
因此每台CVD機器在處理過一定數量的晶圓片及面板後,就要使用含氟的氣體清洗,
以去除內壁上的矽化物質。不過NF3與CF4、C2F6等氣體都屬多氟碳化物,是造成溫室
效應的來源之一。半導體廠及晶圓廠為了降低排氣對溫室效應的影響,在排放含氟廢
氣前,會以攝氏七百至八百度高溫才進行將氣體由有機轉分解為無機,才不會破壞臭
氧層。
全球供應NF3氣體的廠商主要有四家,除美國公司Air Product外,三家日本供應商
分別為中央硝子、關東電化(KDK)、及三井。NF3除了用於半導體及TFT-LCD面板之外
,也可用於彈道飛彈的固態燃料,因此屬管制品,目前原材料生產線僅限於美國、俄
羅斯、南非、日本、及中國大陸。
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