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cvd pvd原理
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三種常見的薄膜材料物理氣相沉積方法(PVD) - 人人焦點
原理 :真空蒸鍍的原理極爲簡單,可以簡單解釋爲,在真空室內通過加熱使材料靶材 ... 物理氣相沉積-PVD超高真空化學氣相沉積-UHV-CVD類金剛石碳-DLC ...
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