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一种面向工艺腔室气流分布调节的cvd设备喷淋头 - Google

本发明涉及一种化学气相沉积设备领域，特别涉及一种面向工艺腔室气流分布调节的CVD设备喷淋头。该喷淋头上设置若干个台阶形的喷淋孔，喷淋孔由上部直径较大的圆孔和 ...

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