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氣體噴灑模組於光電鍍膜設備之應用 - 工業技術研究院

FPD 則沉積生長非晶矽、多晶矽、. 介電質等薄膜，此等薄膜的形成大都是使. 用化學氣相沈積沉積(chemical vapor deposition, CVD)設備來達成，設備腔體於. 製程進行的過程中 ...

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