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鑽石修整器參數最佳化對化學機械研磨墊之改善

最終實驗結果顯示，當鑽石碟對研磨墊十三個區域的耗損量愈一致性，可以得到最佳化的晶圓研磨結果和製程的穩定性Chemical mechanical polishing (CMP) is an integrated ...

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