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第三章研究設計與實驗方法

5. 曝光後熱烤(以下簡稱曝後烤。post exposure bake,. PEB)。 曝後烤目的為消除駐波效應與增加SU-8 光阻之. 交聯效應(crosslinking)。加溫過程中，仍然與軟烤方.

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