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薄（≦6.0nm）氮氧化矽層之製備藉由N2O電漿回火處理

標題: 薄（≦6.0nm）氮氧化矽層之製備藉由N2O電漿回火處理. The Preparation of Thin（≦6.0nm）Oxynitride Films with N2O Plasma Annealing. 作者: 郭良泰

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