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半導體製程設備 - 第 302 頁 - Google 圖書結果

因此高品質的 ICP 高密度電漿源即成為非常具有開發價值的技術。用於 III - V 族半導體蝕刻的反應氣體可大略地區分成 Clk 系電漿蝕刻系統,與 Hz 系電漿蝕刻系統; ...

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