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具有超厚金屬之半導體結構及其製造方法 - Google Patents

在某些實施例中，執行一蝕刻操作(諸如一乾式蝕刻、一濕式蝕刻或一電漿蝕刻)以在鈍化物201中形成一開口而使用隔離123'來停止此操作對UTM 120a、120b之蝕刻。然後隨後移除 ...

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