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電漿蝕刻原理
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電漿表面改質及摻雜對LPCVD 氧化鋅膜效應之研究
Ar、N2 時,物體表面會有被蝕刻( etching ). 的效果,但近來對半導體薄膜之電漿表面. 處理,研究指出,電漿中的電子,光子亦. 會與受處理材料產生微細變化,在光電材.
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