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乾蝕刻設備

本論文研究使用電子迴旋共振原理在1 mTorr的低壓下產生高密度電漿,作為氮化鎵的蝕刻與化學氣相沉積氮化矽介電薄膜的工具,配合相關製程設備,分為三個主要 ...

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