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行政院國家科學委員會專題研究計畫成果 ...

爾後，將二氧化錫粉體置於六甲基二矽胺(HMDS; (Si(CH2) 3)2NH)蒸氣中經130℃反應一小. 時。此一表面處理程序將允許粉體在高溫結晶並維持相當之表面積。最後，於空氣氣氛中經 ...

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