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高溫快速熱退火技術於AM-OLED TFT-Array 之應用 - 材料世界網

RTA處理過程包含三個階段︰升溫階段、穩定階段和冷卻階段。升溫過程中，若單位時間內溫度變化量較大時(如100℃/s)，則所形成的矽晶粒尺寸 ...

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