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半導體設備之抗電漿腐蝕薄膜開發

在蝕刻製程中，腐蝕性的氣體通入反應腔體中形成電漿，利用電漿功率及外加偏壓的改變 ... 技術已難滿足需求，主要是在大氣噴塗下的表面容易有孔隙造成蝕刻氣體容易產生 ...

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