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低損傷磊晶蝕刻機(Samco 200ip Etcher) 儀器簡介

本設備為8 吋GaN 蝕刻機，具備干涉式EPD 之後段製程腔體，為. 一低損傷電漿蝕刻系統之設計，其腔體採用tornado ICP coil 之專利設 ... (2) 特殊氣體: Cl2、BCl3.

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