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高密度活性離子蝕刻系統(High Density Plasma Reactive Ion ...

高密度活性離子蝕刻系統(High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE) ... 重要規格:使用氣體包含BCl3、Cl2、CF4、CHF3、Ar、O2、SF6，ICP RF最大 ...

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