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反應式離子蝕刻機RIE - ishien vacuum 部落格- 痞客邦

電漿蝕刻（Plasma Etching）且屬於非等向性蝕刻，所以是目前最常使用的蝕. 刻方式。電漿蝕刻是一種以氣體為主要的蝕刻媒介，並藉由電漿能量來驅動反.

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