你即將離開本站

並前往https://www.itri.org.tw/WebTools/FilesDownload.ashx?Siteid=1&MmmID=1036452025756363357&fd=PublicationsCont_Files&Pname=414_p065_071.pdf

常壓電漿束於矽蝕刻之應用 - 工業技術研究院

矽材表面接觸時，離子的撞擊與反應自由基的作. 用，將與矽材形成揮發物而帶離矽材料表面而達到. 蝕刻目的，常見的電漿蝕刻矽晶圓製程乃通入含氟. (fluorine)氣體，例如SF6 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「蝕刻氣體」的人也找了：

  1. 乾蝕刻濕蝕刻比較
    2.
  2. Over etching
    3.
  3. 蝕刻步驟
    4.
  4. 蝕刻技術
    5.
  5. rie蝕刻原理
    6.
  6. 蝕刻選擇比高
    7.
  7. 蝕刻半導體
    8.
  8. 乾蝕刻原理
    9.