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干蚀刻 - HORIBA

干蚀刻是指通过将材料暴露于离子轰击(通常是活性气体的等离子体，如氟碳化合物、氧、氯、三氯化硼;有时加入氮气、氩气、氦气和其他气体)，将部分物质从暴露的表面移走 ...

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