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蝕刻製程 - 旋寶好企業

XeF2熔點低，25° C時蒸汽壓為 4Torr，對矽具有很好的蝕刻作用，對Al 、SiO2 ... 蝕刻氣體：Xenon difluoride (XeF2)對Al、SiO2、Si3N4、Au、TiNi、acrylic 及光阻有極 ...

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