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蝕刻氣體
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NF3 三氟化氮 - 台灣特品化學股份有限公司
電子級三氟化氮(NF3)是一種優良的等離子蝕刻氣體,具有優異的蝕刻速率和選擇性,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑; 同時於芯片製造,在高能激光器方面獲得 ...
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