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感應耦合電漿反應性離子蝕刻於石英玻璃加工的技術與應用

etching, ICP-RIE) 系統，以八氟環丁烷(C4F8) 與氦氣(He) 混和氣體作為反應氣體，對石英玻璃進行表面. 圖形結構的蝕刻，並比較不同蝕刻遮罩材料(正光阻(AZ 4620)、負光 ...

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