你即將離開本站

並前往https://concords.moneydj.com/z/glossary/glexp_2607.djhtm

必須將已曝光的部分從晶圓上除去，蝕刻製程的功能 - 解釋頁

蝕刻 技術可以分為濕蝕刻(wet etching)與乾蝕刻(dry etching)兩類。 ... 乾式蝕刻（又稱電漿蝕刻）是目前最常用的蝕刻方式，其以氣體作為主要的蝕刻媒介，藉由電漿能量 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「蝕刻氣體」的人也找了：

  1. 乾蝕刻濕蝕刻比較
    2.
  2. Over etching
    3.
  3. 蝕刻步驟
    4.
  4. 蝕刻技術
    5.
  5. rie蝕刻原理
    6.
  6. 蝕刻選擇比高
    7.
  7. 蝕刻半導體
    8.
  8. 乾蝕刻原理
    9.