因此,第一代及第二代半導體的Si(1.12eV)與GaAs(1.43eV)屬於低能隙材料,為因應未來廣泛的應用,發展出的化合物(第三代)半導體SiC(3.2eV)和GaN(3.4eV)相較於一、二 ...
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