本文研究KCl薄層在0.4-ML-Ge/Si(100)-2□1上的生成與熱脫附反應。在室溫下於Ge/Si(100)-2□1表面上飽和吸附Cl2氣體,接著在Ge/Si(100):Cl表面上蒸鍍上鉀,之後再加熱。
確定! 回上一頁