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曝光後 烘 烤
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光阻特性 - Kouji
一般正光阻曝光後因繞射特性之影響,使得光阻上方所接受之曝光劑量高於光阻底部所接受之曝光劑量,這使得圖像側壁角度… 光阻玻璃型過渡溫度Tg 烘烤溫度要比Tg高提供 ...
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「曝光後 烘 烤」
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