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曝光後 烘 烤
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后烘– PEB
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度 ...
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「曝光後 烘 烤」
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曝後烤目的
曝後烤駐波效應
曝光顯影製程
正負光阻差異
曝光駐波效應
曝光顯影英文
何謂正光阻
正光阻負光阻優缺點