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曝光後 烘 烤
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光刻胶技术参数、分类及工艺流程剖析 - 中华显示网
在受到紫外光曝光后,它在显影液中的溶解度会发生变. ... 在曝光时由于驻波效应的存在,光刻胶侧壁会有不平整的现象,曝光后进行烘烤,可使感光与未 ...
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「曝光後 烘 烤」
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曝後烤目的
曝後烤駐波效應
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何謂正光阻
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