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半導體製程@ 這是我的部落格 - 隨意窩

曝光完成後的晶片利用顯影液將經過曝光後的光阻溶解、洗淨、晾乾，可以使晶片上呈現與所需要的電路圖樣(Pattern)。此階段的製程步驟如下： 1. 軟烘烤(Soft ...

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