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曝光後 烘 烤
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晶片內部製造工藝詳解 - 今天頭條
矽片經矽元素(99.999%)提純後製成矽棒,成為製造集成電路的石英 ... 曝光後的晶圓進行二次烘烤,即所謂曝光後烘烤,烘烤後的光化學反應更為充分。
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「曝光後 烘 烤」
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曝後烤目的
曝後烤駐波效應
曝光顯影製程
正負光阻差異
曝光駐波效應
曝光顯影英文
何謂正光阻
正光阻負光阻優缺點