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曝光後 烘 烤
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360°科技-平版印刷技術(微影) - 電子時報
4、軟烤:芯片上的光阻必須先經過烘烤,以便將光阻層中的溶劑去除,使光阻由原先的 ... 6、顯影:將曝光後的光阻層以顯影劑洗去,照射過光的光阻則會殘留,其他的落入 ...
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「曝光後 烘 烤」
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曝後烤目的
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何謂正光阻
正光阻負光阻優缺點