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一般光刻工艺过程 - 知乎专栏

把设计掩膜模图形转移到晶圆上需要经过一整套复杂的涂胶、曝光、显影、 ... 曝光后，显影前的烘烤步骤叫做后烘（post bake），后烘步骤需要视工艺需要 ...

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