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曝光後 烘 烤
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应用® Sigmameltec ® SFB面膜烘烤系列
使用化學放大型光阻進行光罩製造時,必須對曝光後烘烤(PEB) 步驟進行嚴格控制,這樣便可完成由圖案曝光引發的化學反應。烘烤溫度和時間也會影響最終的圖案尺寸,因此烘 ...
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「曝光後 烘 烤」
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曝後烤目的
曝後烤駐波效應
曝光顯影製程
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曝光駐波效應
曝光顯影英文
何謂正光阻
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