你即將離開本站

並前往http://ir.lib.isu.edu.tw/retrieve/91111/etd-0703108-222514.pdf

義守大學工業工程與管理學系

中有許多的因素影響著關鍵尺寸的變化，包含軟烤溫度、軟烤時間、曝光能量和顯影時 ... 光阻旋轉塗佈於晶圓上後，提升晶圓溫度的步驟稱為軟烤(Soft Bake)(或稱為預先烘.

確定！ 回上一頁

查詢 「曝光後 烘 烤」的人也找了：

  1. 曝後烤目的
    2.
  2. 曝後烤駐波效應
    3.
  3. 曝光顯影製程
    4.
  4. 正負光阻差異
    5.
  5. 曝光駐波效應
    6.
  6. 曝光顯影英文
    7.
  7. 何謂正光阻
    8.
  8. 正光阻負光阻優缺點
    9.