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(12)發明說明書公告本

曝光後烘烤. (PEB)可以使曝光過的光阻結構重新排列,以使駐波的現象. 減輕。PEB可於熱板上或烘箱中施行。PEB之條件將取決於. 特定之光阻組成物及光敏層 ...

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