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6 Photolithography

列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) 系統 ... 過度烘烤(Over bake)：使光阻聚合,曝光不靈. 敏. •烘烤不足(Under ... 會與光罩上的圖形相去甚遠，曝光後的圖.

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