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曝光後 烘 烤
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SU-8 光阻在矽晶圓基材上製作微流道面板之研究
程序有光罩製作、前處理、光阻旋塗、軟烤、曝光、曝光後烘烤、顯影、定影等步驟. 【7】【8】。本研究是運用SU-8 2050 厚膜光阻來製作深度為90um 之微流道,經由厚.
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