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曝光後 烘 烤
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光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 管理學院
曝光後烘烤 : 可以使光阻結構重新排列,使駐波的現象能減少。 (7.) 顯影: 將曝光的成像顯影出來,為了 ... 去水烘烤HMDS 光阻塗佈機製程原理及關係式軟烤的溫度控制.
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「曝光後 烘 烤」
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